Shiseido Čistiaca pena na tvár FUTURE SOLUTION LX New Extra Rich Cleansing Foam

NOVÝ SHISEIDO FUTURE SOLUTION LXEXTRA RICH CLEANSING FOAMVyvinuté na základe viac ako 40 rokov genetického výskumu.PÍŠTE BUDÚCNOSŤ SVOJEJ PLETIODHAĽTE ULTIMÁTNU ODOLNÚ A ŽIARIVÚ PLEŤČO ROBÍPredstavujeme novú generáciu čistiacich produktov, ktoré účinne odstraňujú nečistoty, pričom zachovávajú esenciálnu vlhkosť pleti. Zažite silu bohatej a hustej peny, ktorá zanechá pleť jemnú, hladkú a sviežu, obohatenú o exkluzívny japonský extrakt z byliny Enmei a extrakt z kvetov Sakury.AKÉ MÁ PRÍNOSY• Účinne odstraňuje nadbytočný maz, bez toho aby vysušovala pleť• Obsahuje jemné tenzidy, ktoré zachytávajú nečistoty a zanechávajú pleť čistú a sviežu• Po 3 dňoch 89 % žien pocítilo zníženie produkcie kožného mazu (Spotrebiteľský test na 111 ženách)AKO FUNGUJE• Obsahuje exkluzívne japonské botanické ingrediencie Shiseido: extrakt z byliny Enmei a extrakt z kvetov Sakury, ktoré podporujú odolnosť pleti a jej prirodzenú žiarivosť• Formula Extra Rich Cleansing Foam vytvára po opláchnutí ochrannú vlhkú vrstvu, ktorá pleť hydratuje a chráni.